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📀 出典のデータベース: 半導体 vs 公共下水:排水処理技術の工程別・物質別 徹底比較
処理工程・比較項目
09. 高度処理
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中半導体工場排水の処理技術・特徴
イオン交換樹脂によるフッ素や重金属等のイオンの高度除去、PFAS除去、TMAHの濃縮。活性炭吸着によるTOCやPFASの除去。高度酸化処理(AOP)によるTMAH等の難分解性有機物やPFASの分解。逆浸透膜(RO)処理によるイオン類やPFAS等の分離・回収。これらは処理水を再利用するための超純水製造に不可欠な技術群です。
公共下水(自治体)の処理技術・特徴
浄水処理や下水処理の三次処理として、イオン交換(硬度成分、硝酸性窒素、PFAS除去)、活性炭吸着(カビ臭、PFAS除去)、AOP(微量汚染物質、COD除去)、RO処理(海水淡水化、下水再利用、PFAS除去)などが導入されます。
主要な対象物質・論点
フッ素、重金属、TOC、TMAH、PFAS(半導体)、硬度成分、硝酸性窒素、カビ臭、微量汚染物質、COD、PFAS(公共)
課題・トレードオフ
PFAS除去という共通課題に対し、各技術が活用されます。AOPは分離・除去ではなく分解・破壊する点で他と異なります。処理コストの高さ、使用済み樹脂や活性炭の再生・処理、RO膜の濃縮水処理などが共通の課題です。
出典URL
https://www.erca.go.jp/suishinhi/seika/db/pdf/end_houkoku/3-1904.pdf https://www.nedo.go.jp/content/100979055.pdf https://www.env.go.jp/content/000185566.pdf
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