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📀 出典のデータベース: 半導体 vs 公共下水:排水処理技術の工程別・物質別 徹底比較
処理工程・比較項目
07. 一次化学/物理処理
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中項目
半導体工場排水の処理技術・特徴
晶析技術を用いたフッ素回収装置「エコクリスタ」のような先進技術が開発されています。排水中のフッ素を純度95%以上のフッ化カルシウム(人工蛍石)として結晶化・回収し、フッ酸の原料として再利用することで、廃棄物削減と資源の有効活用に貢献します。
公共下水(自治体)の処理技術・特徴
一般的には「最初沈殿池」での物理的な沈殿処理がこの工程に該当します。凝集剤を添加して沈殿効果を高めることもありますが、特定の物質を狙った高度な分離回収は行いません。
主要な対象物質・論点
フッ素の有価物回収(半導体)、浮遊物質(SS)の除去(公共)
課題・トレードオフ
半導体分野では単なる除去から「晶析」による有価物回収へと技術が進化している点が特徴です。薬品コストと、発生した汚泥や濃縮水の処理が共通の課題となります。
出典URL
https://www.organo.co.jp/wp/wp-content/uploads/2020/04/CSRReport_2019.pdf http://www.mizumirai.net/shorij/index.htm
すべての出典情報
フッ素の基礎知識とフッ素含有水の処理方法
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研磨排水処理システム | 製品情報
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シリコン研磨排水処理システム
シリコンインゴットの外周研削、ウエハーの粗研磨・面取り、バックグラインダー、ダイサー、CMPなどの工程から出る研磨排水から水やシリコンを回収するシステムです。
セラミック膜を用いたCMP排水処理技術 - HUSCAP - 北海道大学
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リンを含んだ排水の処理法(1)-凝集沈殿法
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CSR REPORT 2019
最近では高効率な生物処理を可能とするグラニュール技術を利用した、工場から排出される窒素含有排水の高速処理シス. テムや、都市下水などの低濃度有機物含有排水処理 ...
下水処理場の図解・解説
#### 活性汚泥法の概要と日本の下水処理の現状
活性汚泥法は、1910年代に開発された、下水中の有機物を効率的に処理するための主要な生物処理技術です。この方法では、高濃度の微生物(活性汚泥)を維持し、その活動によって下水中の有機物を分解します。微生物の活発な活動を支えるためには、十分な酸素の供給と、活性汚泥を循環させる返送が非常に重要となります。
日本全国には約2100の下水処理場が存在し、その処理規模は一日あたり数百万立方メートルから数百立方メートルまでと幅広く、実に千倍もの違いがあります。このうち、ここで説明する標準活性汚泥法を採用している処理場は約840箇所を占めています。残りの処理場も、基本的には微生物を用いた生物処理を原理としており、処理の根本は同じであると言えます[下水処理場の数の変化へ](bunpu.htm)。
#### 標準的な下水処理の工程フロー
下水処理場に流入した下水は、まずスクリーンで大きなゴミが除去された後、ポンプで最初沈殿池へと送られます。ここでは、沈殿しやすい固形物が取り除かれ、その後に生物反応槽へと進みます。生物反応槽では、返送された高濃度の活性汚泥が加えられ、微生物の働きによって下水中の有機物が吸着され、摂取、消化分解されます。
有機物の分解が終わると、処理水は最終沈殿池へと導かれます。この工程では、活性汚泥をゆっくりと沈殿させて、きれいになった上澄み水を分離します。沈殿した活性汚泥は、ポンプによって再び生物反応槽へと送り返され、微生物として繰り返し下水処理に貢献します。
下水処理の主要なフローは以下の工程で構成されています。
* 最初沈殿池[1最初沈殿池](psed.htm)
* 生物反応槽流入部[2生物反応槽流入部](ryuun.htm)
* 生物反応槽[3生物反応槽](aert.htm)
* 最終沈殿池[4最終沈殿池](fsedex.htm)
この一連のフローは以下の図で視覚的に理解できます。

処理場全体を俯瞰すると、その広大な規模と施設の配置がわかります[下水処理場を上空から見ると](fukan.htm)。また、活性汚泥が実際に沈降していく様子も確認できます[活性汚泥が沈む様子](chinnd1.htm)。
#### 発生汚泥の処理工程
下水処理の過程で、膨大な量の下水汚泥が発生します。一人あたり一日で約4kgもの泥が発生するとされていますが、その約99%は水分です。この多量の水分を含む下水汚泥から水分を除去し、安定化させるためには、いくつもの段階を踏む処理工程が必要不可欠です[汚泥の処理へ](../odeisho/odeisho1.htm)。
#### 下水の汚れの量と処理効果
人が一日あたりに排出する有機物(BOD)は、平均して約50gとされています。このうち、トイレからの排出が約18g、台所、風呂場、洗濯機などからの排出が約32gを占めると見積もられています。下水処理の過程を経ることで、この汚れは大幅に減少します。具体的には、最初沈殿池で約35gまで減少し、生物反応槽と最終沈殿池での処理を経て、最終的には約3g程度まで汚れの量が抑えられます。
また、下水処理によって発生する汚泥は、固形分で一日あたり約40g、そして水分を含んだ総量では約4kgにもなります。
[サイトマップ](http://www.mizumirai.net/sitema/)
CSR REPORT 2018
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有価物回収システム | オルガノ株式会社
#### 有価物回収システム | オルガノ株式会社
オルガノ株式会社は、工場から排出されるフッ酸、TMAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)、レアメタルといった有価物を効率的に分離・精製し、回収するシステムを提供しています。これは、排水処理の過程で貴重な資源を再利用し、環境負荷を低減することを目指すものです。
#### 主要な有価物回収技術と製品群
同社の有価物回収システムの中でも特に注目されるのが、以下の製品群です。
* **晶析技術によるフッ素回収装置「エコクリスタ」**
* この装置は晶析技術を用いて、使用済みの廃フッ酸から合成蛍石を製造し、資源として再利用することを可能にします。これにより、半導体製造プロセスなどで発生する廃フッ酸の処理と再資源化に貢献します。
* その実績は高く評価されており、(社)日本産業機械工業会の第28回優秀環境装置において「経済産業大臣賞」を受賞しています。
* **イオン交換樹脂利用技術**
* イオン交換樹脂を活用することで、廃液中に含まれるレアメタルを効率的に回収したり、廃液自体を再利用したりする技術を提供しています。
* **半導体洗浄薬品の回収技術**
* オルガノ独自の高純度化技術を応用し、半導体の製造工程で使用される洗浄薬品を回収し、再利用することを可能にします。
これらの技術は、特に半導体製造工場で発生する特殊な廃液から、フッ素やレアメタル、洗浄薬品といった有価物を回収することで、資源の有効活用と環境保全に貢献しています。
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