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📀 出典のデータベース: 半導体 vs 公共下水:排水処理技術の工程別・物質別 徹底比較
処理工程・比較項目
01. 基本戦略の策定
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中項目
半導体工場排水の処理技術・特徴
特定の汚染物質(フッ素、有機物など)に対し、凝集沈殿、生物処理、高度処理(イオン交換、RO膜等)を組み合わせる。近年は単なる除去だけでなく、晶析技術によるフッ素の有価物回収や、処理水の再利用(超純水製造)による資源循環が重視される。
公共下水(自治体)の処理技術・特徴
スクリーン、沈殿池での物理処理を前段とし、活性汚泥法による生物処理を中核に据えて、多様な生活排水由来の汚濁物質を大規模に集中処理する。富栄養化対策として窒素・リンを除去する高度処理(A2O法など)が発達している。
主要な対象物質・論点
半導体は「有価物回収」と「水の再利用」による資源循環、公共は「広域・集中処理」と「富栄養化防止」が基本戦略の論点となる。
課題・トレードオフ
半導体は有価物回収のための高度な設備投資が課題となる。一方、公共下水では広大な面積を要する大規模施設での安定運転と、ピーク流量への対応が課題となる。
出典URL
https://www.env.go.jp/content/000185566.pdf
すべての出典情報
半導体 ・液晶工場における排水回収再利用技術
S KIRYU 著 · 1995 · 被引用数: 2 — 排水処理技術は処理後の排水は放流することを. 前提にしているため,処 理に伴い塩濃度を増加を. させ る方法が多い。一一方,水 回収を考えた場合で. は他の物質を増す方法 ...
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