03. 主要汚濁物質の特定

フッ素、重金属、CMPスラリーの微粒子、IPA、TMAHなどの有機物、TOC、PFASといった、製造プロセスで使用される多様な化学物質が対象となる。

生活排水由来の粗大ごみ、土砂、浮遊物質(SS)、BOD、CODに加え、富栄養化の原因となる窒素、リンが主な対象。その他、カビ臭や微量汚染物質、PFASも含まれる。

半導体はプロセス由来の特定化学物質、公共は生活由来の一般汚濁物質と富栄養化物質が中心。PFASは両分野での新たな共通課題となっている。

半導体は多種多様な化学薬品に対応する必要があり処理が複雑化する。公共は広範な排出源からの微量化学物質の管理が課題となる。

https://www.erca.go.jp/suishinhi/seika/db/pdf/end_houkoku/3-1904.pdf https://www.env.go.jp/content/000185566.pdf