04. 流量・変動の確認

半導体工場排水の処理技術・特徴

製造プロセスの稼働状況により、排水の流量や水質は時間帯によって大きく変動します。そのため、調整槽で一時的に排水を貯留し、流量や濃度を平準化することで、後段の処理設備を安定して稼働させます。

[1]. hitachi-hps.co.jp

[2]. kobelco-eco.co.jp

[3]. irpocket.com

[4]. kinki-shasej.org

公共下水（自治体）の処理技術・特徴

降雨時や、人々の生活サイクルに起因する朝夕のピーク時など、時間帯による流入量の変動を調整槽で吸収し、後段の生物処理などが常に安定した状態で運転できるようにします。

[1]. organo.co.jp

[2]. mlit.go.jp

主要な対象物質・論点

流量・水質の変動緩和、処理全体の安定化

課題・トレードオフ

排水の流量や水質の変動を緩和し、処理全体の安定化を図るという目的は両分野で共通しています。悪臭の発生防止対策が必要となる場合があります。

[1]. kinki-shasej.org

出典URL

https://www.kinki-shasej.org/upload/pdf/kankyou3743.pdf https://www.mlit.go.jp/common/001033454.pdf

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水処理技術の紹介

電子・半導体工場の排水処理システム. 電子 ... 当社は効率的な排水処理システムをご提案します。 実績：排水量 150m3/日～2400m3/日 排水処理フロー例（フッ酸系排水）.

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図2 半導体工場における水処理システムの全体像（例）. 3. 排水回収システム. 3.1 従来の排水回収システムにおける課題. 従来の排水回収システムを図3に示し ...

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環境基本方針／環境マネジメント体制／環境教育

半導体製造工場などで用いられたフッ酸（フッ化水素酸）は、これまで排水 ... テムや、都市下水などの低濃度有機物含有排水処理技術を独自に開発しており、環境 ...

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高度処理ナレッジ集

... リン除去のAO法、窒素・リン同時除去のA2O法へと改造してきた。 （攪拌・循環）. ・標準法の施設を利用し、嫌気槽、無酸素槽の撹拌には、曝気用エアーを使用した ...

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