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📀 出典のデータベース: 半導体 vs 公共下水：排水処理技術の工程別・物質別 徹底比較
処理工程・比較項目
04. 流量・変動の確認
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中半導体工場排水の処理技術・特徴
製造プロセスの稼働状況により、排水の流量や水質は時間帯によって大きく変動します。そのため、調整槽で一時的に排水を貯留し、流量や濃度を平準化することで、後段の処理設備を安定して稼働させます。
📀 出典のデータベース: 半導体 vs 公共下水：排水処理技術の工程別・物質別 徹底比較
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中製造プロセスの稼働状況により、排水の流量や水質は時間帯によって大きく変動します。そのため、調整槽で一時的に排水を貯留し、流量や濃度を平準化することで、後段の処理設備を安定して稼働させます。
降雨時や、人々の生活サイクルに起因する朝夕のピーク時など、時間帯による流入量の変動を調整槽で吸収し、後段の生物処理などが常に安定した状態で運転できるようにします。
流量・水質の変動緩和、処理全体の安定化
排水の流量や水質の変動を緩和し、処理全体の安定化を図るという目的は両分野で共通しています。悪臭の発生防止対策が必要となる場合があります。
https://www.kinki-shasej.org/upload/pdf/kankyou3743.pdf https://www.mlit.go.jp/common/001033454.pdf
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