データベースに戻る
📀 出典のデータベース: 半導体排水処理の最前線:先行企業の課題解決と技術的優位性
企業名
Aquatech
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中企業概要
半導体製造業界向けに、適合性と安全性を重視した統合ソリューションを提供する水処理企業。水・廃棄物・エネルギーの消費を最小限に抑え、信頼性の高い生産を支援する。アリゾナ州のマイクロプロセッサ製造施設で24時間365日の運用・保守サポートを提供するなど、豊富な実績を持つ。
解決する主要課題
半導体製造に不可欠な超純水(UPW)の生成において、シリカやホウ素といった除去が困難な弱電離イオンを高効率で除去すること。また、信頼性の高い生産を維持しながら、水、廃棄物、エネルギーの消費を最小限に抑え、水のリサイクル率を向上させることも主要な課題である。
保有するコア技術
独自の分別電気脱イオンプロセス「QUA FEDI® (Fractional Electrodeionization Process)」。この技術は、特に半導体産業で求められる超純水(約18 MΩ・cm)を安定して生成し、シリカを95%以上、ホウ素を98-99%以上除去する高い性能を持つ。
技術的強み・競争優位性
FEDI® GIGAスタックによる、超純水製造におけるシリカやホウ素の高い除去性能。パイロットスタディで実証された、製品水中のホウ素濃度を1ppb未満にまで低減できる能力は、厳しい水質基準が求められる半導体業界において明確な競争優位性となる。また、アリゾナの施設での24時間365日の運用・保守サポートに裏打ちされた高い信頼性も強み。
出典URL
https://www.aquatech.com/industries/technology/semiconductor-manufacturing
すべての出典情報
出典情報の詳細は、ブラウザでページを表示してご確認ください。