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📀 出典のデータベース: 半導体排水処理の最前線:先行企業の課題解決と技術的優位性
企業名
Gradiant
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中企業概要
高度な水処理および廃水処理ソリューションを提供するグローバルリーダー。特に半導体産業特有のニーズに応える革新的な技術開発をリードしており、水の再利用、持続可能性、費用対効果の向上を支援している。
解決する主要課題
総有機炭素(TOC)、アンモニア、硝酸塩など変動性の高い物質を複雑に含む半導体排水からの高い回収率での水再利用。CMPスラリーなどの難処理排水の処理。限られた設置スペース内で、スラッジ生成を最小限に抑えた排水処理プラントを構築すること。
保有するコア技術
独自の技術を統合した多段階ソリューション。TOCやアンモニア除去に特化したBioCapture、硬度やリン酸塩を除去しスラッジ生成を最小化するFBC(流動床晶析)、脱硝に効果的なAFB(嫌気性流動床)など。その他、膜分離(CFRO)、熱式蒸発器、高度酸化プロセス(AOP)も保有。
技術的強み・競争優位性
顧客の特定の課題に対し、独自の技術群を最適に組み合わせたコンパクトなカスタムソリューションを設計・提供する能力。これにより、変動の激しい複雑な排水から55%以上の高い水回収率を達成しつつ、運用コストを10-30%、廃棄物を50%削減するなど、経済性と環境性能を両立させることができる。
出典URL
https://www.gradiant.com/gradiant-wins-second-semiconductor-water-treatment-project-in-dresden-as-he-fully-integrates-under-one-brand/
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