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📀 出典のデータベース: 半導体と公共の排水処理技術:工程ベースの徹底比較と全体像
処理工程/技術
活性炭吸着
🗓 更新日: 9/24/2025
公開中分類
物理化学処理
半導体分野での概要・特徴
排水中に溶け込んでいる有機物(TOC)などを活性炭の微細な孔に吸着させて除去します。国際的にもPFAS(有機フッ素化合物)除去における主要技術の一つとして認知されていますが、イオン交換樹脂と同様に、短鎖PFASは吸着しにくく経済的な除去が難しいとされています。後段に設置されるイオン交換樹脂やRO膜を保護する目的でも用いられます。
公共自治体分野での概要・特徴
浄水処理において、カビ臭や異臭味物質、トリハロメタン前駆物質などを除去する高度浄水処理として利用されます。近年、PFASが水道水質の暫定目標値を超えて検出される問題に対し、その除去技術として重要視されています。下水処理の三次処理で色度やCODを除去する目的で使われることもあります。
課題・共通点・相違点
水に溶けている微量の有機物を吸着除去する目的は共通しており、近年では両分野でPFAS除去という新たな共通の重要課題に対応する技術として注目されています。半導体分野では特定のプロセス由来の有機物、公共分野ではより多様な由来の微量物質が対象となります。使用済みの活性炭の再生や交換が必要となる点が共通の課題であり、特にPFASを吸着した活性炭は1100℃以上の高温焼却が必要とされ、その処理コストやフッ素化した不完全燃焼成分の生成懸念が課題となります。
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