イオン交換

分類

物理化学処理

半導体分野での概要・特徴

イオン交換樹脂を用いて、排水からフッ素や重金属などのイオンを高度に除去する技術です。処理水を再利用するための純水・超純水製造に不可欠です。近年では、PFAS（有機フッ素化合物）の除去にも有効な技術として適用されますが、活性炭同様に短鎖PFASの除去が経済的な課題とされています。また、後段の分解処理の効率を上げるため、希薄なTMAH含有排水をイオン交換樹脂で吸着・濃縮する前処理として利用する事例もあります。

[1]. env.go.jp

[2]. hitachihyoron.com

[3]. hitachi-hps.co.jp

[4]. miyama.net

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[6]. unichemy.co.jp

[7]. kobelco-eco.co.jp

[8]. nedo.go.jp

公共自治体分野での概要・特徴

主に浄水処理において、水の硬度成分（カルシウム、マグネシウム）の除去（軟水化）や、硝酸性窒素などの特定のイオン除去に用いられます。近年、水道水中のPFASを除去するための有効な対策技術として活性炭吸着と並び重要性が高まっています。下水処理ではあまり一般的ではありません。

[1]. env.go.jp

[2]. mlit.go.jp

課題・共通点・相違点

水中のイオンを除去する原理は共通で、近年ではPFAS除去という新たな共通課題に対して両分野での活用が期待されています。半導体分野では極めて高純度の水を求めるための「除去」に加え、特定物質の「濃縮」という目的でも使用される点が特徴的です。公共分野では用途が限定的でしたが、PFAS対策での重要性が増しています。使用済み樹脂の再生に薬品が必要で、その再生廃液の処理と、短鎖PFAS除去の経済性が共通の課題となります。

[1]. env.go.jp

[2]. unichemy.co.jp

[3]. nedo.go.jp

すべての出典情報

半導体製造工場の廃水処理 - Hitachihyoron

したイオン交躁処理法の処増フローシートの一例を図5にホ. す｡廃水はまず清惟炭上さ‡に入I)ここで有機物を除去した後,. 塩酸. 原水. 原水槽. 30. 脱水機. ∩>. 0. 2. (こぎ) ...

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