AIチップスタートアップEtchedの企業分析

#### 半導体製造に使用されるエッチング技術 半導体製造プロセスの概要と、特にエッチング技術の使用に焦点を当てたこの記事では、この分野で行われている最新の研究について紹介しています。  *画像クレジット: Macro photo/Shutterstock.com* #### 現代電子機器の脳としての半導体 - 半導体は、通信、コンピュータ、バイオテクノロジー、兵器技術、航空、再生可能エネルギーなどのさまざまな分野での進歩を可能にする電子機器の重要な要素です。 - 半導体は、純粋な物質（シリコンやゲルマニウム）やガリウムアーセニドなどの複合物から製造され、ドーピングと呼ばれるプロセスで微量の欠陥が導入され、物質の伝導に劇的な変化がもたらされます。 #### 半導体製造プロセスの概要 - 半導体製造技術は、特定の一連のプロセスを結果としてもたらす複数の異なる製造段階で構成されています。 - ウェハ上にはさまざまな物理的および化学的プロセスを使用して多数の小さな回路が作成されます。 - プロセスは、シリコンウェハプラットフォームの使用から始まります。ウェハは、ほぼ純粋なシリコン（インゴット）から作られたサラミ状のストリップから形成され、完璧に磨かれています。 #### 半導体エッチング技術とその種類 - 半導体デバイスの製造において、エッチングは、プラットフォーム上の薄い層から材料を系統的に除去し、その物質の一連の残留物を残す任意の技術に対応します。 - カバーはエッチングに耐性があるように定義されます。カバーが配置されると、露出された材料は「湿式（化学）」または「乾式（物理）」プロセスを使用してエッチングされます。 #### 最新の研究 - イタリアの研究者グループによって発表された最近の研究では、SF6を用いたプラズマエッチングを介してシリコンカーバイド（SiC）分類表面のトレンチの開発と特性評価について議論されています。 - プラズマエッチングによって作成されたトレンチは、優れた品質と均一性を持っていることが透過電子顕微鏡とX線光電子分光計の研究で示されました。 [ACS Omega](https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsomega.1c02905) #### 参考文献とさらなる読書 - ASML, 2022. *[半導体製造の6つの重要なステップ](https://www.asml.com/en/news/stories/2021/semiconductor-manufacturing-process-steps)* - MKS Instruments, 2022. *[半導体エッチング](https://www.mks.com/)* - Pirnaci, Massimo D., et al. 2021. Systematic Characterization of Plasma-Etched Trenches on 4H-SiC Wafers. *ACS Omega.* 6(31). 20667-20675. - Racka-Szmidt, Katarzyna, et al. 2021. A Review: Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Silicon Carbide. Materials 15(1). 123. - Guo, Haoming, et al. 2022. A review on the mainstream through-silicon via etching methods. *Materials Science in Semiconductor Processing* 137. 106182.

#### A Deposition And Etch Technique To Lower Resistance Of ... 物理蒸着とイオンビームエッチ法を従来のトレンチエッチに比べて比較し、抵抗を下げる技術について検討されました。 低誘電率のシリコンダイオキシドにトレンチパターンをエッチングし、その後ダマシーンフローを用いてトレンチに銅を充填することで、銅（Cu）ワイヤの形成が伝統的に行われてきました。しかし、この方法では多結晶構造が形成され、顕著な結晶粒界と空隙が生じ、Cuワイヤの抵抗が増加します。また、ダマシーンアニールプロセス中のCu拡散を防ぐために、高抵抗のTaNライナー材料も使用されています。 物理蒸着（PVD）は、高運動エネルギー（10〜100 eV）で銅を堆積するために使用され、低抵抗で密な単結晶構造を形成します。PVDの欠点は、ラインオブサイトスプレッドを持ち、平坦な表面にしか均一に堆積できないことです。深い穴やトレンチを充填することができません。線形状のマスクをエッチングするためには、平坦な表面に均一なCu層を堆積し、次にイオンビームによって物理的にエッチングする必要があります。Cuは反応性ガスと揮発性化合物を形成しないため、反応性イオンエッチプロセスは使用できません。イオンビームエッチ（IBE）中に生成された加速されたArイオンは、入射角が非常に高い場合にCuを除去することができます。しかし、マスクの影響でエッチング可能な領域が制限されます。マスクがイオンビームに垂直な場合、赤色で示された領域はエッチングできません。このエッチングの失敗は、放出された原子の経路が影になるかブロックされることによるものです。マスクがイオンの経路に平行な場合、すべての非マスク領域をエッチングできます。したがって、イオンビームエッチングは任意の長さの線形状のマスクをエッチングすることに限定されます。 PVDとIBEエッチングがライン抵抗に与える影響を理解するために、SEMulator3D可視性堆積とエッチ機能を使用してモデル化されました。PVDは、SEMulator3Dで30度の角度拡散可視性堆積プロセスを使用して再現され、ARイオンとの衝突中に放出されたCu原子のランダムな性質を正確にモデル化しています。IBEは、低いビーム発散を持つグリッド加速イオンの振る舞いを反映するために、可視性エッチと2度の角度拡散、60度の極角傾斜を使用してモデル化されました。両方のウェハは自由に回転するものと仮定されています。他のプロセスステップは、IBEとPVDの制約を考慮して調整されています。図2は、ダマシーンCu充填（図2a）とPVD/IBEプロセス（図2b）を使用して作成された同じ構造を示しています。PVD/IBEの制約を満たすために、追加のプロセスステップが含まれ、望ましい最終構造の等価形状が作成されています。 次に、これらの制約に従い、同等の16nm SRAM回路セルをPVD/IBEワイヤで製造できることを示しました。中間エンドオブラインより上のすべての金属層が平坦な表面から製造されるため、これはfinFETデバイスで見られる複雑なインターコネクトトポロジーとは異なり、PVD/IBEワイヤの理想的な候補となります。図3は、各金属層の孤立構造と、PVD/IBEを使用して3金属層のfinFET構造を作成するために必要なステップを示しています。 その後、ダマシーンフローと物理蒸着からの電気抵抗を、finFET PおよびNチャネルのビアまでのワイヤの最上層金属層から測定しました。図4は、PおよびNチャネルでの抵抗測定の開始点と終了点を示しています。CuとTaNインターフェース間の界面抵抗を補償するために、Cuの抵抗率はTaNインターフェースへの最も近い距離の指数減衰定数1nmの関数として増加しました。ダマシーンフローCu堆積は完全に結晶化されないと予想されるため、Cuの抵抗率が50％増加しました。一方、PVD/IBE銅プロセスではTaNライナーを使用しないため、指数減衰関数は適用されず、このモデルでは銅の体積抵抗率が使用されました。ダマシーンフローとPVDを比較した抵抗率の表が図4に含まれています。 モデルから計算された抵抗値によると、IBE/PVD製造法を使用すると、従来のトレンチエッチに続くダマシーン充填と比較して、抵抗を67％減少させることができます。これは、IBE/PVDではTaNライナーが不要であり、このプロセス中のCu抵抗が低いためです。結果は、金属ライン形成時にダマシーン充填と比較してIBE/PVDを使用することで抵抗性の改善が可能であることを示しており、より複雑な製造プロセスの代償としています。

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Website: https://etched.com/. External link for Etched ; Industry: Computer Hardware Manufacturing ; Company size: 11-50 employees ; Headquarters: Cupertino, CA.

#### Etched | 世界初のトランスフォーマーASIC Etchedは、世界初のトランスフォーマーASICです。チップにトランスフォーマーアーキテクチャを焼き付けることで、GPUよりもAIモデルを10倍速く、安価に実行できます。 .jpg) #### GPUでは不可能な製品を構築 - リアルタイム音声エージェント - ツリーサーチによる優れたコーディング - マルチキャストスペキュラティブデコーディング - 明日の兆パラメータモデルを実行 - 1つのコアのみ - 完全なオープンソースソフトウェアスタック - 100兆パラメータモデルに拡張可能 - ビームサーチとMCTSデコーディング - チップごとに144 GBのHBM3E - MoEおよびトランスフォーマーバリアント 

#### エッチング - 最も古い版画技法とエッチングの作り方 エッチングとは何か、そしてエッチングはどのように作られるのか？ エッチングは、特に版画の発展において、芸術史において非常に影響力があった。エッチングの芸術は、15世紀に起源を持ち、鎧職人が自分たちの商品を飾るために開発した技術から進化したものである。 エッチングの革新的な例は、[レンブラント・ファン・ライン](https://www.parkwestgallery.com/artist/rembrandt-van-rijn)、[アルブレヒト・デューラー](https://www.parkwestgallery.com/artist/albrecht-durer)、[フランシスコ・ゴヤ](https://www.parkwestgallery.com/artist/francisco-goya)などの巨匠の作品で見ることができる。しかし、「エッチング」という用語を聞いたことがあっても、そのプロセスが具体的に何を含むのかを正確に知らないかもしれない。 そこで、私たちはエッチングの初心者向け紹介をまとめ、芸術的なエッチングがどのように作られるかを示しています。私たちのエッチングガイドは、数年前にアムステルダムの驚くべき[レンブラントハウス博物館](https://www.rembrandthuis.nl/en/)を訪れた際に記録したいくつかのビジュアルエイドで説明されています。 レンブラントはエッチングの芸術形態を完全に革新し、博物館では400年以上前にレンブラントが行ったようにエッチングが作成される様子を目撃することができる。 **エッチングの基本** レンブラントの時代には、17世紀の芸術家たちが一般的に使用していた3つの基本的な技法があった―**銅版画、ドライポイント、そしてエッチング**。それぞれが金属板に画像を作り、板にインクを塗り、板と紙を印刷機を通して通すことを含んでいた。 銅版画は最も古い技法であり、ルネサンス期に非常に人気があった。その名前が示すように、銅板に画像を直接彫ることを含んでいた。それはかなり難しく、ある程度の金属加工技術を必要とした。 ドライポイントは似ているが、芸術家は針を使って金属板に線を引いた。線は表面的だが、インクを保持する粗いエッジであるバーを得ることができた（バーはすぐに摩耗する）。 一方、エッチングは、金属加工のバックグラウンドのない芸術家にとってより魅力的な媒体にする新しい革新を導入した。 **エッチングの作り方** **エッチングのプロセスの要点は次の通りである：** 1). 銅をはじめとする金属板から始まる。 2). 金属板全体に適用される酸に耐性のあるワックス（グラウンド）が塗布される。 3). 芸術家はバー（針）を使用してグラウンドに画像を彫り、下に金属を露出させる。 4). 画像が完成したら、板を酸に浸す。 5). 酸は露出した金属を削り、板に凹線を作り出す。 6). 板を取り出して清掃する。 7). 板にインクを塗る。酸によって作成された板の線にインクが充填される。 8). 余分なインクを取り除き、インクが凹線にのみ残るようにする。 9). 湿った紙を板の上に置き、印刷機を通す。 10). 印刷機は紙と板を一緒に押し、インクの付いた画像を紙に印刷する。 11). インクを塗り直し、清掃し、板を再び印刷機を通すことで追加の印象を作成することができる。 これは複雑で手間のかかるプロセスであったが、芸術家は驚異的な明瞭さと品質の版画を制作し、大量生産することができた。 デューラーの[「リトル・パッション」](https://www.parkwestgallery.com/behind-artist-albrecht-durer/44682)、レンブラントの[「ミレニアム・コレクション」](https://www.parkwestgallery.com/rembrandt-millennium-collection-etching/45396)、ゴヤの[「ロス・カプリチョス」](https://www.parkwestgallery.com/7-creepy-art-from-francisco-goya-los-caprichos/34874)などのエッチングを一目見れば、この何世紀も前の芸術形態が生み出す視覚的、心理的な深さに驚かされるだろう。 もしもっと学びたい場合や、マスターエッチングをアートコレクションに追加したい場合は、当ギャラリーのコンサルタントまでお問い合わせください。電話番号は(800) 521-9654 ext. 4、メールアドレスはsales@parkwestgallery.comです。また、週に一度のライブオンラインアートオークションに登録することもできます！

Etched is just the latest chip startup to raise big. Venture funding to semiconductor chips appears well on its way to bouncing back this year ...

#### AI Startup Etched Clinches $120 Million To Develop Specialized Chip AIスタートアップのEtchedが1億2000万ドルを調達し、Nvidiaのエネルギー消費の多いAIチップを凌駕する専用チップの開発を行うことが発表されました。 #### Etchedの特徴 - EtchedはGavin UbertiとChris Zhuによって設立され、OpenAIのChatGPTやGoogle Geminiなどの人気のあるAIモデルに最適化されたチップを開発しています。 - Peter ThielやAmjad Masadなどの重要な支援者に支えられた1億2000万ドルの資金調達ラウンドは、Etchedが台湾積体電路製造股份有限公司（TSMC）に設計を送り、生産を行うのを支援します。 - Nvidiaの汎用性が高いがエネルギー消費が激しいチップとは異なり、Etchedのプロセッサはコンテンツや応答生成などの特定のAIタスクにおいてより優れた性能を約束しています。 #### なぜ重要か - AIチップ市場におけるNvidiaの支配的な80%のシェアを持つ中、Etchedの専用チップはこのバランスを変える可能性があります。 - 成功すれば、Etchedは投資家の感情を再構築し、チップ市場をより競争力のあるものに変えるかもしれません。 - Etchedの進歩はAIモデルの効率性と機能を再定義する可能性があり、トランスフォーマーモデルがAI開発をリードし続ける場合、Etchedの専用チップは世界中のAI駆動技術の礎となるかもしれません。 [株価](https://finimize.com/glossary/stock)の動向やEtchedが革新的な製品を展開する際に、両社の株価の動きに注目することが重要です。

#### AIスタートアップEtchedが1億2000万ドルを調達し、専用チップの開発を行う AIスタートアップEtchedは、シリーズAの資金調達ラウンドで1億2000万ドルを調達したと発表しました。この資金は、同社が専用チップのさらなる開発に使用する予定です。 - サンフランシスコに拠点を置くEtchedは、OpenAIのChatGPTやGoogle Geminiで広く使用されている特定の種類のAIモデルを実行するために調整された専用プロセッサを製造することを目指しています。 - 推定によると、NvidiaはサーバーAIチップ市場を支配し、売上の約80%を占めています。Nvidiaの汎用AIチップはさまざまなコンピューティングアプリケーションを処理できますが、特定の機能を実行するために設計されたプロセッサよりもエネルギーを消費します。Nvidiaは市場価値で最大の米国企業です。 - Etchedによると、今回の資金調達ラウンドの支援者には、元PayPalのCEOであるPeter ThielやReplitのCEOであるAmjad Masadが含まれています。 - Etchedのエンジニアは、コンテンツと応答を生成するAIコンピューティングの一部である推論を駆動するためのチップを設計しています。同社が設計した初のチップは、トランスフォーマーとして知られる特定の形式のAIモデルを実行するために最適化されています。 - CEOのGavin Ubertiはインタビューで、「この会社は少し賭けです。もしトランスフォーマーが消えれば、当社は消滅します。しかし、もしトランスフォーマーが残れば、私たちは史上最大の企業の1つになるでしょう」と述べています。 - Etchedは、チップの製造を行うために台湾半導体製造（TSMC）と提携しています。Ubertiは、同社がTSMCに設計を送信し、チップを製造するためのコストを負担するためにシリーズAの資金が必要だと述べています。 - 会社はその評価額を開示していません。2023年3月の540万ドルのシード資金調達ラウンド時点では、投資家は同社を3400万ドルで評価しました。 - この35人の会社は、UbertiとChris Zhuによって設立されました。 [参照元](https://www.reuters.com/article/etched-fundraising-idUSKBN2Q22X2)

AI chip startup Etched raised $120 million to expand manufacturing of its specialized chip that it boasts will rival Nvidia Corp.

AI startup Etched to produce $120M worth specialised chip. The company has partnered with Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) for chip ...

Etch Process Market Report: Trends, Forecast and Competitive Analysis to 2030. PUBLISHED: January 29, 2024. PAGES: 150 - page report. DELIVERY TIME: 3 business ...

The report offers a comprehensive outlook by exploring global key drivers with Market Growth Analysis, Share Dynamics, and Prominent Market ...

The Etching Chemicals Market size is expected to develop revenue and exponential market growth at a remarkable CAGR during the forecast period from 2023–2030.

Etched has raised a total funding of $5.36M over 1 round from 5 investors. Investors include Primary Venture Partner, Soma Capital and 3 ...

#### How to Build a Startup Financial Model スタートアップの財務モデルを構築する方法についてのガイドです。 - スタートアップの潜在力を説明する数字 - スタートアップが資金調達を行ったり、買収先に売却するため、またはチームの予算を管理するために、財務モデルを作成する - スタートアップ向けの無料の財務モデルやテンプレートを使用するか、専門家と共にカスタマイズされたモデルを構築する [無料の財務モデルテンプレート](https://kruzeconsulting.com#how-to-create-a-financial-model)を利用することで、スタートアップのプロジェクションを作成し、409A評価会社に必要な情報を提供し、キャッシュバーンなどを考えるのに役立つExcelスプレッドシートが提供されています。 スタートアップの財務モデルは、スタートアップの戦略とビジョンの数値表現であり、収益、顧客、KPI、経費、従業員数、現金状況を伝え、予測するための財務ツールです。 [財務モデリングのベストプラクティス](https://kruzeconsulting.com#contact)には、3年間のダイナミックなモデルを構築することが含まれます。各年の前提条件を簡単に変更できるようにし、売上ファネル全体にウォーターフォールを含めることが重要です。これには、変換率やユニット経済などが含まれます。 財務モデルの構築には、以下のステップが含まれます： 1. モデルの目標を決定する 2. 企業のKPIを決定する 3. 財務モデルテンプレートを入手する 4. 実績をテンプレートに統合する 5. 収益を予測する 6. 必要な従業員数をプロジェクトする 7. その他の経費を見積もる 8. 作業資本をモデル化する 9. プロジェクションをレビューする これらのステップに従うことで、スタートアップの財務モデルを効果的に構築することができます。

#### Building A Startup Financial Model That Works - Visible.vc Visible.vcの記事「Building A Startup Financial Model That Works」は、スタートアップの財務モデルの構築に焦点を当てています。記事では、スタートアップの財務モデルがなぜ重要か、どのように構築すべきか、そして一般的な財務モデリングの間違いについて詳しく説明されています。 #### スタートアップの財務モデルの重要性 - ウォーレン・バフェットが企業に投資する際、ビジネス全体の質について総合的な判断を下します。 - 財務モデルを構築する際には、ビジネス全体を見渡し、組織が達成しようとしていることやモデルの目的を理解することが重要です。 - 財務モデルの目標は、すべての予測が正確であることではなく、ビジネスの成功または失敗に直接影響を与える要素を把握し、成功裏に実行する計画を示すことです。 #### スタートアップの財務モデル構築方法 - ボトムアップの財務予測：ビジネスの特定の製品方向や流通戦略、またはビジネスに重大な影響を与える可能性のある特定のパートナーシップを検討している企業に最も役立ちます。 - トップダウンのスタートアップの財務予測：将来の財務パフォーマンスを推定するために一般的なパラメータを使用します。主に新しいビジネスが受け取る市場シェアを決定するために使用されます。 #### スタートアップの財務モデルに含まれる3つの成果物 - 財務諸表 - キャッシュフロー概要 - KPI概要 #### スタートアップの財務モデルに必要な5つのメトリクス - 収益 - 売上原価（COGs） - 運営費用 - バーンレートと手元資金 - 獲得メトリクス #### スタートアップの財務モデルを活用する - 財務モデルは、経営者との重要な議論において鍵となります。収益成長、バーンレート、手元資金などの要素は、採用計画の策定や配布戦略の変更などに役立ちます。 - 良く考えられた前提を準備することで、重要な会話がより生産的になり、資本と人材の獲得において強力な優位性を得ることができます。

Etched, a 2-year-old startup founded by Harvard dropouts, has secured $120 million in funding to develop a competing AI chip called Sohu.

#### Evaluating Your Competition - FasterCapital スタートアップとして、競合他社はたくさん存在します。直接的なもの、間接的なもの、潜在的なものがあります。あなたは、これらすべてを理解して、スタートアップのための市場機会分析を作成する必要があります。 - 直接競合: 同じ製品やサービスを提供する企業。例えば、新しいレストランであれば、直接の競合は他のレストランです。 - 間接競合: 異なる製品やサービスを提供し、同じ目的に使用できる企業。例えば、新しいレストランであれば、間接的な競合はファーストフード店です。 - 潜在的競合: 将来的に市場に参入する可能性のある企業。例えば、新しいレストランであれば、潜在的な競合は同じ市内にレストランを開店できる企業です。 これらの競合を理解するために、直接競合、間接競合、潜在的競合それぞれがうまくやっていることと悪いことを理解する必要があります。それによって、スタートアップの競争上の優位性を開発することができます。 競合を評価する際には、以下の3つの重要な質問に答える必要があります： 1. 彼らは誰ですか？ 2. 彼らは何を提供していますか？ 3. 彼らは市場でどのように位置づけられていますか？ これらの質問に答えることで、競合を打ち負かすためのゴートゥーマーケット戦略を開発できます。

#### Analyzing Market Competition: A Guide to Effective Market Assessment 1. **市場競争分析の導入** - 市場評価の重要性を理解することは、競争の激しい現代市場で成功するために不可欠です。競争を包括的に評価することで、機会を特定し、情報に基づいた意思決定を行い、効果的な分析を行うことができます。市場競争分析は、市場評価の重要なツールであり、競争相手の強み、弱み、戦略を理解することができます。 2. **市場競争分析の重要性** - 競争相手を分析することで、製品、価格戦略、ターゲット市場、マーケティング戦術について深く理解することができます。この知識により、競争優位性を獲得し、製品を差別化し、ブランドを効果的に位置付けることができます。また、競争相手を研究することで、彼らの動きを予測し、戦略を適応させ、新たな課題に積極的に対処することができます。 3. **市場競争分析の事例** - 手作りジュエリーに特化した小規模なeコマースビジネスを例に取り上げると、市場を支配するいくつかの既存ブランドを発見します。しかし、より詳しく調査すると、これらのブランドの中にはエコフレンドリーなジュエリーオプションを提供していないことがわかります。この知識を元に、製品提供を調整して環境に配慮した消費者をターゲットにした製品を提供することで、ブランドを差別化し、ニッチ市場を獲得することができます。 4. **市場競争分析の効果的なヒント** - 直接および間接の競合他社を特定し、競合他社の製品やサービスを分析し、マーケティング戦略を研究することが重要です。また、顧客のレビューやフィードバックをモニタリングし、業界のトレンドを常に把握することも重要です。 

Transformer model chipmaker Etched.ai raises $120M to challenge Nvidia's market dominance - SiliconANGLE.

This report addresses the strategic issues impacting both the user and supplier of plasma etching equipment to the semiconductor industry. Markets for dry ...

#### Global Etched Leadframes Market Size, Exploring Projected Outlook and Growth for 2023-2030 Global Etched Leadframes Marketは、投資家から製造業者までのステークホルダーに多くの利益をもたらします。現在の市場動向と将来の予測を分析することで、市場のトレンドやダイナミクスについて深い理解を提供します。競争の激しい環境についても詳細な情報を提供し、主要プレーヤーの市場シェア分析や新興プレーヤーの包括的なプロファイルを含みます。 - Global Etched Leadframes Marketの競争状況 - 主要プレーヤーの市場プレゼンスと戦略を包括的に評価 - 市場リーダー、チャレンジャー、ニッチプレーヤーを特定 - 市場シェア、製品提供、最新動向を考慮 - Global Etched Leadframes Marketのセグメンテーション - 製品タイプ、地理的地域、消費者デモグラフィックスを基準に市場をセグメント化 - 各セグメントを分析し、成長の可能性や課題を明らかに - Global Etched Leadframes Marketの理由 - 世界、地域、国レベルでの市場収益を提供 - 異なるタイプ、アプリケーション、技術、エンドユーズによる市場分割 - 投資家に利益をもたらし、市場のスコープやポジションを理解 - Global Etched Leadframes Marketの将来予測 - 地域、主要国、トップ企業の情報に基づいたビジネス予測 - 競合他社の詳細な分析と主要戦略を理解し、ビジネスのポジショニングを計画 [Global Etched Leadframes Reportの詳細を確認する](https://www.verifiedmarketreports.com/product/etched-leadframes-market/?trk=article-ssr-frontend-pulse_little-text-block)

#### 半導体エッチング装置市場の成長予測、2023年から2031年 半導体エッチング装置市場は、2023年から2031年にかけて成長する見込みです。コンパクトな電子デバイスの需要の増加が、近い将来における半導体エッチング装置市場の規模を推進すると予想されています。半導体は、コンピュータ、通信、バイオテクノロジー、再生可能エネルギー、兵器技術、航空などの分野で使用される電子部品に広く採用されています。また、Atomic Layer Etching（ALE）などの先進的なエッチング技術は、原子層を除去する能力を持っています。SF6を用いたプラズマエッチングによるシリコンカーバイド（SiC）表面のトレンチの開発と特性評価に関するさまざまな研究が行われています。 #### 主要プレーヤーの展望 - グローバル半導体エッチング装置業界で活動する主要プレーヤーは、生産性とパフォーマンスを向上させるための先進製品の開発に取り組んでいます。これらの進歩は、将来の半導体エッチング技術の応用を容易にする可能性があります。ベンダーは、市場シェアを拡大するために、提携、パートナーシップ、合併・買収、および製品の立ち上げなどの成長戦略を採用しています。 #### エッチング装置の重要性 - 半導体の製造における重要なステップの1つであるエッチングは、半導体表面から材料を除去するのに役立ちます。薄いコーティングを所望のデザインに成形するために、液体化学薬品、反応ガス、またはイオン化学反応が使用されます。エッチング装置は、半導体および他の電子デバイスの生産ラインで広く使用されています。 #### 消費者向け電子機器の採用 - 消費者向け電子機器の採用の増加は、半導体エッチング装置市場の動向を推進する主要な要因の1つです。車両センサーの使用や消費者向け電子機器および産業用自動化の改善が、半導体の使用を促進しています。半導体エッチング装置の使用は、近い将来においてすべてのビジネス分野で増加する見込みです。 #### コンパクトな電子デバイスの需要 - 様々な半導体ICメーカーやデザイナーは、自動車、医療、消費者向け電子機器などのさまざまなエンドユース産業でのコンパクトな電子デバイスの使用の増加に伴い、ICのサイズを最小化することに焦点を当てています。これは、次数の年に半導体エッチング装置市場の成長を促すと予想されています。 #### 高出力デバイスの需要 - 自動車、データセンター、産業、エネルギーおよびユーティリティなどのさまざまなエンドユース産業で、高出力デバイスが注目を集めています。これらのデバイスは、高い電力密度、低消費電力、高効率、優れた熱管理などの厳しい要件を満たさなければなりません。これらの要件を満たすために、チップ製造中に高アスペクト比構造のウェハ間均一性を向上させる必要があります。 #### 予測される市場動向 - 2023年から2031年までの乾式エッチ装置タイプセグメントが最大のシェアを占めると予想されています。このセグメントは、2022年に69.2%のシェアを占めており、予測期間中に7.9%のCAGRで成長する見込みです。乾式エッチ装置は、多くの化学薬品を使用しないため、操作の危険性を軽減し、高いエッチレートを提供します。これがPCBの製造においてその使用を促進しています。 #### 予測される地域市場 - 2023年から2031年までのアジア太平洋地域が最大のシェアを占めると予想されています。この地域は、特に中国や東南アジア諸国における電子部門の拡大が市場価値を推進しています。一方、北米とヨーロッパの産業は、近い将来においても著しいペースで成長すると予測されています。北米は2022年に26.3%のシェアを占めており、自動車および電子産業の成長、および半導体セクターの拡大への政府の支援がこれらの地域での市場統計を後押ししています。 #### 競争状況 - グローバルな半導体エッチング装置市場は、少数の大手ベンダーが市場シェアの大部分を支配している状況です。多くの企業が新製品の研究開発に莫大な投資を行っています。製品ポートフォリオの拡大や合併・買収は、主要プレーヤーが採用している注目すべき戦略です。RENA Technologies GmbHは、均一性のための先進的な浸漬槽を提供しています。この金属エッチ技術は、2-5µmの金属パターンを持つRF IC、MEMSデバイス、および光カプラーの製造に適用できます。 [参照元](URL)